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脉冲激光沉积真空系统(Pulsed laser deposition vacuum system)
北京科技大学
沈阳慧宇真空技术有限公司，非标
北京市
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检测范围

通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒

仪器参数

制备室极限真空优于5.0x10-8Pa；多靶沉积 4个2”；衬底加热温度 1000度；进样室极限真空1.0x10-5Pa；沉积均匀性
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