多靶位磁控共溅射仪(Magnetron Sputtering System)
华南理工大学
Kurt J.LESKER Company,LAB Line
广东省
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检测范围

用于制备金属、半导体、绝缘体等薄膜

仪器参数

3个射频电源,最大功率300W;1个脉冲直流电源,最大功率1000 W;基片台最大可升温至550℃

仪器特色&服务特色

国家重点研发计划(2016YFB0401504和2016YFF0203603)、国家重点基础研究发展规划项目计划(973计划, 项目编号: 2015CB655004)、广东省自然科学基金资助项目(2016A030313459)
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