检测范围
该系统可在高真空条件下对基片进行预处理，包括基片等离子清洗、基片烘烤，在基片上实现有机、无机多层复合薄膜的生长。
仪器参数
该系统由有机分子束外延室、无机镀膜室、磁控溅射室和样品引进四个室组成。
1. 有机分子束外延室：系统极限真空6.6×10-5Pa；系统漏率，停泵关机12小时后真空度≤5Pa。
2. 无机镀膜室：系统极限真空可达6.6×10-5Pa；基片Ф75mm，可旋转，步进电机驱动，转速5～60转∕分。
3. 磁控溅射系统：系统极限真空可达6.6×10-5Pa；三个永磁靶和一个强磁靶，靶直径均为Φ60mm。
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