ICP刻蚀机
西安交通大学
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司,0
陕西省
我们目前尚未与西安交通大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,我们将为您提供以下保障:

检测范围

该刻蚀机具有稳定可靠的工艺性能、开阔的工艺窗口和良好的工艺兼容性和重复性,主要用于SOI和SOG刻蚀工艺,能够进行深槽、深孔、硅柱刻蚀,刻蚀速率均大于10μm/min,选择比大于50:1,刻蚀均匀性小于3%,Scallop小于200nm,CD lost小于0.5μm,Angle为90±2°
如果找不到合适的仪器,您可以提交您的需求,由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求