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磁控例子溅射台
西安交通大学
美国丹顿，*
陕西省
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椭偏仪

检测范围

.三个直径3英寸磁控溅射靶枪；2.共焦向下溅射；3.配置为直流溅射、射频溅射或反应溅射；4.其中二个靶枪为普通磁场，可以溅射最厚6mm非磁性靶材，一个为磁性增强型，可以溅射最厚2mm镍靶材（最厚2mm铁靶材）；5.真空性能：极限真空优于2E-7torr。

仪器参数

6英寸范围内均匀性优于+/-5%；采用时间控制，溅射重复性优于+/-3%；最高加热450度，控温精度优于+/-2%；100sccm流量计流量控制精度+/-1 sccm；
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