电子束直写刻蚀系统-测试100仪器共享平台

电子束直写刻蚀系统
所在单位：	西安交通大学
品牌/型号：	CRESTEC公司，CABL9000C
所在地区：	陕西省
仪器说明：	我们目前尚未与西安交通大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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在电子束光刻胶上制作纳米结构。结合刻蚀或者Lift-Off剥离工艺，可以在各种基材(硅、石英、Ⅲ－Ⅴ族化合物)上制备纳米图形。可用于小面积掩膜版、纳米电极、纳米电路等微纳尺度结构的加工。

最小线宽：30nm
加速电压：30kV
电子束斑直径：2nm
扫描电镜分辨率：2nm
加工晶圆尺寸：小于4英寸

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