检测范围
纳米磁性薄膜制备设备,可以制备纳米磁性薄膜,能加热,共五个靶位。
仪器参数
1、主真空室的本底真空优于2×10-8Torr;2、四英寸的基片范围内薄膜厚度均匀性优于±2%;3、可以溅射磁性和非磁性金属、进行直流和射频溅射;4、基片可以加热(800℃)、冷却(水冷);5、全自动控制;6、18英寸主溅射室;7、高真空泵抽系统;8、超高真空磁控溅射靶;直流/射频电源;9、4英寸样品台;10、PhaseII-J控制系统。
仪器特色&服务特色
纳米磁性薄膜制备设备,可以制备纳米磁性薄膜,能加热,共五个靶位。