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HF气相刻蚀系统(hfqxksxt)
所在单位：	西北工业大学
品牌/型号：	美国SPTS公司，SPTS UETCH
所在地区：	陕西省
仪器说明：	我们目前尚未与西北工业大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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仪器介绍

检测范围

刻蚀的材料和尺寸：4英寸基片上的氧化硅材料，用于刻蚀氧化硅层，特别是对于研究采用表面工艺制造的MEMS微器件的器件层释放技术提供重要的技术支持。

仪器参数

刻蚀4英寸氧化硅片，刻蚀速度: 100-1000A/min (受工艺温度及压力影响)，片内刻蚀均匀性:

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