低压化学气相沉积炉-测试100仪器共享平台

低压化学气相沉积炉(LPCVD)
所在单位：	西北工业大学
品牌/型号：	北京七星华创电子有限公司，4374卧式
所在地区：	陕西省
仪器说明：	我们目前尚未与西北工业大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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仪器介绍

检测范围

制备二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和多晶硅薄膜

仪器参数

适用于4英寸硅片，25片每批结构型式：三管卧式热壁型淀积薄膜及淀积膜均匀性优于（1500埃情况下）：淀积膜厚度： 600～20000埃主要工艺气体：SiH4、SiH2Cl2、NH3、PH3 其中LTO采用TEOS热分解制备工作温度范围：550～950℃ 温区长度及精度：≤±1℃/300mm 温度梯度：0～30℃/300mm可调系统极限真空度：优于1Pa

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