我的订单 会员中心 常见问题 意见反馈 服务商入口

提交需求
首页 > 所有仪器> 电子工艺实验设备 > 反应离子蚀刻机
联系平台客服
分享
反应离子蚀刻机(RIE)
西北工业大学
北京创威纳科技有限公司，RIE-502
陕西省
我们目前尚未与西北工业大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

所有仪器

行业专用仪器

测量/计量仪器

物理测试

分析仪器

检测范围

用于MEMS浅槽刻蚀工艺。

仪器参数

1.极限真空：  4.0×10-4 Pa2.刻蚀材料:   Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、Au、Al、GaN、GaAs等3.真空室规格: φ300?100，4.电极尺寸:   φ200mm5.刻蚀速率：  0.1 ? 1μ/min
猜您需要 查看更多>>
如果找不到合适的仪器，您可以提交您的需求，由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求