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电子束光刻机(Electron beam lithography)
苏州大学
Raith，Raith Poineer
江苏省
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检测范围

电子束曝光机是利用聚焦的电子束在表面上扫描产生纳米图形的装置。利用电子束在电子抗蚀剂的表面扫描制备图案，可以避免光波散射作用的困扰，达到纳米的精度。电子抗蚀剂是对电子敏感的高分子，经过电子束扫描后发生分子链断裂或交联，使曝光部分发生化学性质的改变。经过显

仪器参数

电子束斑：1kV加速电压时小于4nm，20kV加速电压时小于2nm；束流大小漂移：小于0.5%/8小时；束斑位置漂移：小于300nm/小时。
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