检测范围
可刻蚀SiO2、Si、SiN、Mo、MoSi、Ta、TaSi、HfO2、光刻胶和多种金属等，即在玻璃或石英等基片上刻蚀衍射光学元件。离子束刻蚀是微细加工的一种重要手段。
仪器参数
离子刻蚀系统由离子源、真空系统、反应室、气路系统、水冷系统五大部分组成1．离子源口径：Ф150mm2．有效离子束直径：Ф100mm3.离子束流密度：≥1mA/cm24.离子能量：150eV～1000eV5．真空系统：1500升/秒分子泵、11升/秒机械泵各1台。带真空计。6．反应室尺寸：Ф325mm7．气路系统：2路进气（可作清洗）；2个质量流量计，2路显示。8．可加工片子尺寸：Ф150mm以内。9．均匀性：±5%10.水温控制范围：5℃～25℃
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