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离子刻蚀镀膜仪(Precision Etching Coating System)
西北工业大学
Gatan 公司，Pecs 682
陕西省
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检测范围

对试样进行离子刻蚀，以便进行EBSD分析以及扫描电镜和光学金相分析；对非导电试样进行离子镀膜，在场发射扫描电镜的高倍率下不显示膜材料的形貌，以便对试样进行高分辨观察。

仪器参数

刻蚀试样直径：10mm，刻蚀速度：10mm/hr（Si）、3mm/hr（W）镀膜试样直径：10mm，镀膜速度：1.5?/sec（Cr）、0.5 ?/sec（C），靶材：C、Cr、Pt、Au/Pd
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