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PVD离子镀膜机
广东工业大学
北京丹普表面技术有限公司，AS500DMTXBH
广东省
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检测范围

PVD涂层镀膜制备

仪器参数

最高沉积温度：500℃；  电弧靶4个，离子源1个，  磁控靶2个，HIPPMIS 1个

仪器特色&服务特色

PVD薄膜制备与设计
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