无掩膜数字光刻机-测试100仪器共享平台

无掩膜数字光刻机(Model free Lithgraphy System)
所在单位：	广东工业大学
品牌/型号：	中国科学院光电技术研究所，DS-2000
所在地区：	广东省
仪器说明：	我们目前尚未与广东工业大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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微纳级高精度光刻，光刻对象包括硅片、PCB、金属铬板、ITO、半导体外延封装等

采用高功率405nm蓝紫光半导体LED，定位精度0.1微米，使用业界最先进的无掩膜DMD投影曝光技术，实现100*100mm范围的非接触光刻需求

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