检测范围
超高分辨曝光：验收指标线宽可达10nm。同时提供高分辨成像能力。?? 设备灵活性高，可与科研需求灵活匹配。
仪器参数
最小特征尺寸 ≤10nm(guarantee)，用HSQ 胶，可得到几nm 线宽；拼场精度: ≤ 35nm均值 + 3σ；套刻精度: ≤ 35nm均值 + 3σ加速电压：20eV-30keV in 10 V steps；束电流：5pA – 20nA；束斑大小：2nm at 20KV at 3mm working distance, currents > 250 pA4nm at 1KV at 3mm working distance, currents > 250 pA定位控制精度：1nm?
仪器特色&服务特色
该设备的常用用户包括交叉信息院等院系的研究生、博士后等科研人员三十余人。
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