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光刻机(Is improving)
清华大学
SUSS MicroTec，SUSS MA/BA6
北京市
我们目前尚未与清华大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

检测范围

可以双面曝光；可以曝光各种尺寸和形状的基片，最大基片尺寸4英寸。?

仪器参数

芯片尺寸：3及4英寸，“10mm ×10mm”小样品台；曝光光源：功率350W；曝光光谱范围 UV400；分辨率0.7mm；机械调节分辨率0.1μm；正面对准精度小于±0.5mm；背面对准精度小于±1mm；接近式，硬接触，软接触，真空接触曝光。?

仪器特色&服务特色

该设备的常用用户有交叉信息院等院系的研究生、博士后等科研人员二十余人。
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