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高真空镀膜仪(Is improving)
清华大学
Denton，DV-502B
北京市
我们目前尚未与清华大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：

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检测范围

高真空系统可实现超薄碳支持膜的铺制，重复性强，操作简便，安全系数高。

仪器参数

配备分子泵Hi-Vac Pump真空系统，可使溅射舱室达到10-6的高真空状态；操作界面配备彩色触摸屏操作面板，可实现自动化镀膜的精细控制；具有自动进气系统，可实现舱室破真空的自动控制；舱室罩可通过触摸屏操作进行自动升降；配备厚度检测装置。

仪器特色&服务特色

施一公、李雪明、姚骏、俞立等多个实验室应用该仪器铺制超薄碳支持膜。
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