单管LPCVD系统(Is improving)
清华大学
七星华创电子,定制
北京市
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检测范围

单管LPCVD八寸系统,可以一次批量处理多个硅片,最大到8寸

仪器参数

工作温度550-950度,炉管直径8英寸,三温区系统

仪器特色&服务特色

清华-富士康纳米科技研究中心
超顺排碳纳米管生长
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