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双离子磨系统(Is improving)
清华大学
Gatan公司，600DIF
北京市
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主要用于制备TEM样品。将切割、手动研磨并高精度凹坑研磨后，得到的厚度小于5μm、直径为3mm的圆片，再离子减薄至厚度为0.1μm

仪器参数

600DIF真空度﹤5×10-4Pa高压0.1-6keV可调5keV时最大电流正常具有CCD图像传感器
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