离子束刻蚀机(Is improving)
清华大学
海淀凯友科技开发公司,LKJ-1C-150
北京市
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检测范围

稳定性和重复性好;均匀性好;刻蚀选择比高;易于拆装、清洗;

仪器参数

刻蚀气体:CF4、CHF3、Ar、O2;离子光学:双光栅;栅极材料:石墨;离子源尺寸:φ150mm;

仪器特色&服务特色

用于全息光栅的刻蚀
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