多弧离子镀-测试100仪器共享平台

多弧离子镀(Is improving)
所在单位：	清华大学
品牌/型号：	沈阳科技真空公司，4-Arc+2sputtering
所在地区：	北京市
仪器说明：	我们目前尚未与清华大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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可实现各种金属、合金及金属氮化物薄膜的制备。

1）可实现多种金属、合金及金属氮化物薄膜的制备；2）可以同时使用6个弧，或者4个弧加2个磁控靶；3）极限真空度5.0x10-5Pa；4）加热温度最高到500℃；5）镀膜过程中可以实现样品的转动。

本设备为针对专项课题研制的专用设备，根据特殊需要，有限开放。

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