检测范围
1.流动态程序升温（FlowTPR/TPD）；2.静压态程序升温（SoakTPD）；3.真空态程序升温（VacuumTPD）；4.化学吸附等温曲线；5.单分子层覆盖量；6.活性（金属）表面分散度（百分比）(独有功能)；7.平均微晶粒尺寸；8.吸附热；9.物理吸附等温曲线及微孔、介孔分布
仪器参数
1）1个分析站和2个制备站；2）5路进气；3）高温炉达1100℃；4）专利无油真空系统；5）具有5个高精度力传感器和1个液位传感器，真空度达10-10mbar(分析站和脱气站)；6）表面积范围：0.0005–5000m2/g；7）孔体积：下限
仪器特色&服务特色
1.流动态程序升温（FlowTPR/TPD）；2.静压态程序升温（SoakTPD）；3.真空态程序升温（VacuumTPD）；4.化学吸附等温曲线；5.单分子层覆盖量；6.活性（金属）表面分散度（百分比）(独有功能)；7.平均微晶粒尺寸；8.吸附热；9.物理吸附等温曲线及微孔、介孔分布
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