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磁控溅射装置(Magnetron sputtering device)
北京科技大学
美国DENTON公司，DV-502A,1000W
北京市
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检测范围

可以在各种材料表面溅射镀金属及非金属薄膜。

仪器参数

1、直流电源工作功率：1000W；2、射频电源工作功率：500W；3、试样直径不大于50mm。

仪器特色&服务特色

可以在各种材料表面溅射镀金属及非金属薄膜。
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