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ICP干法金属刻蚀系统(Metal ICP Etching)
中国科学技术大学
Panasonic，APX300
安徽省
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检测范围

广泛应用在微纳米加工过程中，利用等离子体和表面薄膜反应，通过真空系统将反应副产物及 时抽出反应腔体，实现各向异性刻蚀，从而保证细小图形转移后的保真性。

仪器参数

晶圆尺寸：最大6英寸；ICP离子源：3kW（13.56MHz）；RF功率：600 W（13.56MHz）；反应气体： O2、Ar、Cl2、BCl3、SF6 ；配置ESC静电卡盘
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