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无掩模光刻机(Maskless Lithography)
中国科学技术大学
合肥芯硕半导体有限公司，ATD 1500
安徽省
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检测范围

基于先进的第二代光刻直写技术,通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。在应用中省去了繁琐 的掩膜加工步骤，具有效率高、技术先进、应用灵活等特点

仪器参数

工作波长：405 nm，分辨率：0.9 μm，对准精度：±0.6 μm，扫描速度：30-420 mm2/min，样品尺寸：最大 6 英寸硅片
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