电子束光刻系统-测试100仪器共享平台

电子束光刻系统(Electron Beam Lithography)
所在单位：	中国科学技术大学
品牌/型号：	JEOL Ltd.，JBX-6300FS
所在地区：	安徽省
仪器说明：	我们目前尚未与中国科学技术大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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仪器介绍

检测范围

利用高能量汇聚电子束斑扫描光刻胶，从而获得最小尺度10nm的纳米尺度的结构图形。

仪器参数

套刻精度：在高精度模式下小于±20nm；拼接精度：在高精度模式下小于±20nm；束流：30pA 至 20nA；束斑：在高精度模式下小于 3nm；?扫描时钟频率：50 MHZ；扫描区域：150mm X 150mm;扫描最小步长：高精度模式下 0.125nm，高速模式下 1nm ；写场尺寸：高精度模式下 62.5μm X 62.5μm，高速模式下 500um X 500um。

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