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金属电子束蒸发台
广东省半导体产业技术研究院
台湾聚昌科技股份有限公司，Peva-600E
广东省
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检测范围

电子束蒸发台常见于镀膜工艺流程，其原理是利用加速后的电子能量打击材料标靶，使材料标靶蒸发升腾，最终沉积到目标基底上。主要用于Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等金属的镀膜，一炉可以依次蒸镀6种不同金属，可以蒸镀高熔点金属Pt、W等

仪器参数

基板尺寸：2、4、6英寸；  基板加热：最高温度250℃，控温精度1℃；  系统极限真空度： 2×10-7 torr；  蒸发源数量：6个坩埚；  可蒸发金属：Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等；  膜厚均匀性：≤±5%；
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