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光刻机
广东省半导体产业技术研究院
美国ABM公司，ABM/6/350
广东省
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检测范围

紫外光刻机用于半导体光刻工艺制程、光波导、光栅、微机电MEMS、LD、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、显示面板LCD、光电器件、纳米压印和电子封装等领域，是进行纳米器件组装和材料表面构筑的重要工具。 光刻机是微电子器件及集成光学器件关键的工艺设备,研究人员通

仪器参数

350 瓦近紫外光源；  365nm波长输出光强:18-20 mW/cm2；  曝光有效范围：6英寸直径的圆形；  曝光光强均匀性  曝光中心点2英寸直径范围内光强度误差
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