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磁控溅射覆膜系统(sputtering deposition system)
北京工业大学
金盛微纳，**
北京市
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检测范围

主要功能是进行薄膜的沉积以及金属材料、非金属材料的表面改性。

仪器参数

可以沉积金属、金属氧化物，理论最小厚度为单原子层，只能进行薄膜沉积，真空度8*10^-5，加热温度500度。
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