检测范围
通过无水乙醇的催化作用，HF气体与SiO2反应生成可挥发产物SiF4及气态水，并通过真空系
统排出。整个反应过程不生成液态水，避免了液体表面张力及毛细现象对悬空微纳结构的粘连
影响，常用于牺牲层的释放工艺，可以获得良好的表面质量，确保悬空微纳米结构的有效释
放。
仪器参数
HF气体流量：0～1000sccm；无水乙醇气体流量：0～370sccm；工艺氮气流量0～3000sccm；刻蚀速率：100-1000埃/min；最大兼容至8英寸；
仪器特色&服务特色
利用蒸发HF气体温和的干法刻蚀环境，可用于制备纳米级高精度量子谐振器件、高灵敏悬臂梁、陀螺仪、加速度计等微电子器件，广泛应用于物理、量子信息、MEMS致动器传感器的制备工艺。
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