离子束辅助磁控溅射系统(Ion beam assisted magnetron sputtering system)
电子科技大学
中国科学院沈阳科学仪器公司,JGP560D|| ||极限真空度〈=8X10(-6)帕
四川省
我们目前尚未与电子科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,我们将为您提供以下保障:

检测范围

沉积功能薄膜材料

仪器参数

两个500W射频靶 两个500W直流靶 极限真空 1*10-6 Pa 阳极离子源一个
如果找不到合适的仪器,您可以提交您的需求,由我们帮您匹配最优的服务商 提交需求