检测范围
具有集电弧离子技术 非平衡磁控溅射技术 中频栾生磁控溅射技术 离子增强气相沉积技术为一体的复合镀膜功能，可以镀制类金刚石膜，金属氮化物薄膜，金属碳化物薄膜等硬质薄膜，各种金属膜，装饰膜及多种光学膜，可满足多种功能薄膜材料方面的理论和实际应用研究。
仪器参数
矩形多弧靶1个，直流非平衡矩形磁控溅射靶2个，中频孪生磁控溅射靶一对，矩形离子源1个，真空室顶部中央配有1个射频源，用于离子清洗或反应沉积。真空室加热温度：室温~ 600度，3路进气，及其流量控制阀。3路气体可相互实现比例控制，偏压实行直流+脉冲偏压叠加，直流偏压（600V）可实现梯度加载，斜率加载；脉冲偏压（1000V），手动操作+局部智能控制，局部智能控制包括：主要工艺参数可以梯形变化也可倾斜变化；具备三种真空控制模式，压力控制，流量控制，比例控制。
膜厚不均匀性〈10%。极限真空，5*10-4Pa。
仪器特色&服务特色
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