检测范围
该设备配置高能气体离子束源和高能MEVVA金属离子束源各一套，具有单元气体或金属离子注入、双元静态或动态复合离子注入等功能。可实现植物或农作物的诱变育种，微生物的改良，金属或非金属材料的离子注入表面改性等多种工艺。
仪器参数
1.高能气体离子源（一套）引出电压：20kV～100kV连续可调离子束流：1～8mA连续可调离子束斑直径≥Φ100mm适用气体：惰性气体（氩气、氦气、氖气、氪气），氮气，氢气，甲烷，乙炔等2.高能金属离子源（一套）引出电压：30～80kV连续可调离子束流：1～8mA连续可调阴极弧脉冲宽度：1.0ms，频率：0～50Hz可调束斑直径≥Φ100mm适用靶材：金属靶，石墨靶，合金靶等
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