检测范围
可用于开发单层及多层功能膜——各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等
仪器参数
1、真空抽气系统：主沉积室：选用涡轮分子泵FB1200+机械泵2XZ-15机组抽气，并设置旁路抽气。（1）极限真空：系统经24小时烘烤，连续抽气P≤6.6×10-5Pa（2）抽速：系统由大气开始抽气在≤40分钟内，P≤6.6×10-4Pa（3）系统漏率：用氦质谱检漏仪检漏漏率≤1×10-8PaL/S2、磁过滤弧源：直流弧源，弯管900，弯管壁绕紫铜冷却水管，出口内径180㎜，靶直径Φ60㎜，带有聚焦磁场线圈，可加正负40V偏压，从弧源法兰处引入气体，沉积速率1μm/h
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