电子束蒸发镀膜系统(Denton Electron Beam Evaporator)
上海交通大学
Denton vuucm,Explorer
上海市
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检测范围

可以加工的衬底尺寸:6 英寸以下兼顾5、4、3、2英寸以及破片,蒸发沉积Au, Pt, Al, Ti, Cr, Ni, Ag, V, Ti,W, ITO, AlN, SiO2, PZT等薄膜

仪器参数

1. 极限真空:优于1E-7Torr 2. 抽气速度:30分钟内从大气抽到5E-6Torr 3. 镀膜均匀性重复性:6英寸工件均匀性优于#177;3 ,重复性优于#177;2.0 4.蒸发沉积Au, Pt, Al, Ti, Cr, Ni, Ag, V, Ti,W, ITO, AlN, SiO2, PZT等薄膜
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