数字无掩膜光刻机(Digital without mask lithography)
长春理工大学
中国科学院光电技术研究所,DS-2000/14G
吉林省
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仪器参数

光刻分辨力:13.68μm、5μm 、2μm 、1.5μm 、1 μm
工件台运动范围:X:100mm、 Y:100mm;
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