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等离子增强型化学气相沉积（PECVD）系统(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
电子科技大学
Ｔｒｉｏｎ，ORN III|| ||沉积速率（50－10）nm/min
四川省
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检测范围

可低温沉积氧化硅、氮化硅和非晶硅

仪器参数

沉积速率（50－100）nm/min

仪器特色&服务特色

为西南技术物理研究所等同行单位提供外协加工
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