PECVD 设备-测试100仪器共享平台

PECVD 设备(Plasma enhanced chemical vapor deposition)
所在单位：	电子科技大学
品牌/型号：	沈阳天成真空技术所，自行设计外协加工\|\| \|\|进室出室真空度≤5Pa RF功率可调范围0－500W
所在地区：	四川省
仪器说明：	我们目前尚未与电子科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障：票正规发票合委托合同保交易担保退不满意退款优优选服务商

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等离子化学气相沉积a-Si、a-SiNx、a-SiOx等薄膜

基片尺寸6英寸，可沉积a-Si、a-SiNx、a-SiOx等薄膜，7路工作气体。

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