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红外后对准双面光刻机(ABM High Resolution Mask Alignment and Exposure System(BSIR))
湖北大学
美国ABM公司，ABM/350/6/DCCD/BSIR
湖北省
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检测范围

350Watt 备用近紫外汞灯光源, 5 Gallon 显影液 300MIF, 1Gallon AZ 5214E-IR Positive Image Reversal Photoresist

仪器参数

主要用于功率电子器件、传感器、微波器件及MEMS（微电子机械系统）等新型电子元器件的单双面对准及曝光工艺。
最小光刻线条：0.6μm或更好
对准精度：正面对准:
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