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光刻机(-)
国防科学技术大学
美国ABM，ABM 6
湖南省
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激光划片机

检测范围

能对圆片正、反两面对准光刻。

仪器参数

1.曝光系统：350W、365/400NM深紫外光源；2.曝光面积：6英寸*6英寸；3.Z轴控制精度:2.5um；4.x,y轴控制精度：0.5um；5.Θ角控制精度：0.001°；6.正面对准精度：0.5um；7.背面对准精度：2um。
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