多弧离子镀系统(Multi-arc ion plating system)
同济大学
中科院沈阳科仪公司,DHL-600
上海市
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检测范围

本设备是在特定的真空环境下,采用电弧等离子体蒸发源,产生高能量高密度金属等离子体,在工件负偏压的作用下,可在金属、陶瓷等表面镀制金属膜,通入反应气体可镀制化合物膜,如TIN、TIC等,膜层致密结合力好。在精密金属切削刀具表面强化及机械、电子等行业有着广泛的用途

仪器参数

在真空室的周围壁上共安装六只多弧源,弧靶材直径Ф100mm,顺次排布,靶材尺寸事先发给用户便于用户定做靶材,多弧源采用高频引弧方式。
工件转盘:
直径约Ф450mm,高约600mm,
转盘上装有六组工件自转轴,可随转盘公转并带动工件自转,转速可调
可对样品加热,从室温~300℃可控可调,加热器采用K装加热丝。
工件转盘尺寸满足设计要求,公转、自转可以无极调速,加热温度区间0-300℃;偏压:0~500V。
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