| 电子束曝光系统(Electron Beam Lithography) | |||
|---|---|---|---|
| 电子科技大学 | |||
| XENOS Semiconductor Technologies GmbH，XeDraw2采用电子束曝光，实现10nm以下纳米图形的精确写入，写入速度为10MHz，支持GDSII,BMP和DXF等文件格式输入 | |||
| 四川省 | |||
| 我们目前尚未与电子科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器，建议您联系相关单位，以确定是否可以对外开放。您也可以通过 点击此处 提交需求，委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试，我们将为您提供以下保障： | |||
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