电子束曝光系统(Electron Beam Lithography) | |||
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电子科技大学 | |||
XENOS Semiconductor Technologies GmbH,XeDraw2采用电子束曝光,实现10nm以下纳米图形的精确写入,写入速度为10MHz,支持GDSII,BMP和DXF等文件格式输入 | |||
四川省 | |||
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