双电子束光学镀膜机
同济大学
日本 OPTORUN,OTFC-1300-CPI-P
上海市
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检测范围

采用物理气相沉积的方法,主要进行多层氧化物薄膜的制备

仪器参数

膜层控制精度:正负1nm;最大光学元件尺寸:Φ360mm;光谱均匀性:正负1%;
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